Céramique haute performance pour semi-conducteurs
Plus de 120 ans d'expérience dans la céramique technique et de nombreuses années d'expérience dans l'industrie des semi-conducteurs, combinés à un vaste savoir-faire en matière de matériaux et de processus et à des propriétés de produits exceptionnelles, font de nous l'un des principaux interlocuteurs lorsqu'il s'agit de composants céramiques pour l'industrie des semi-conducteurs. Découvrez les avantages de notre portefeuille de céramiques haute performance et profitez de notre compétence en matière de solutions pour un grand nombre de processus de fabrication dans l'industrie des semi-conducteurs.
Nous fabriquons nos composants et pièces en céramique en fonction des exigences individuelles de vos applications, afin que vous puissiez concevoir et entretenir vos processus de manière flexible et fiable. Nous sommes passés du statut de fabricant de composants céramiques de haute qualité à celui de partenaire de développement fiable, capable de traduire vos exigences individuelles en produits semi-conducteurs de pointe.
Indispensable pour l'industrie des semi-conducteurs
Que ce soit dans le traitement des wafers, la fabrication des semi-conducteurs ou la manipulation, nos composants en céramique haute performance permettent d'obtenir des performances et une fiabilité durables.
CeramTec propose le matériau céramique adapté à presque toutes les exigences :
- Al2O3 - pureté et rigidité élevées
- AlN - conductivité thermique et isolation électrique élevées
- SiSiC - faible dilatation thermique et densité
- Si3N4 - haute résistance à la rupture et faible dilatation thermique.
Sur la base des exigences individuelles, nous pouvons recommander le choix optimal de matériaux pour l'application du client. Nous améliorons continuellement les étapes clés de notre processus de fabrication tout en augmentant nos capacités de production.
Découvrir des capacités de production élargies
| ÉTAPES IMPORTANTES DU PROCESSUS | PARAMÈTRES TECHNIQUES | VALEURS/EXIGENCES RÉALISABLES |
| Usinage dur - Fraisage | Planéité, parallélisme, Ra | Planéité < 1 μm Ra ≥ 0,05 μm |
| Meulage | Planéité | 5 μm < Ø 200 mm / 10 μm > Ø 200 mm |
| Parallélisme | 5 μm < Ø 200 mm / 10 μm > Ø 200 mm | |
| Rugosité | Ra de 0,15 μm à 0,6 μm | |
| Érosion | Positionnement symétrique | jusqu'à 0,05 mm (positionnement de trous/rainures) |
| Rodage et polissage | Planéité, parallélisme, rugosité | Ra de 0,06 μm à 0,35 μm Planéité < 2 μm Parallélisme < 2 μm |
| Etat de surface | Rugosité | Rugosité < 3,2 μm Taille < 150 μm |
| Mesure spéciale | Inclinaison locale/planéité locale | Résolution de l'objectif 50 nm - 25 μrad |
| Nettoyage et conditionnement | Degré de pureté | ISO 5 / salle blanche 100 / emballage en salle blanche (sur demande du client) |
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